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公告通知
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·落实《若干意见》典型案例之五 中科院数学院:扭转事前审批和事后审核的牛鼻子,让报销便利化[02.24]
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第16届半导体缺陷识别、成像与物理国际学术会议通知
2015-01-16| 文章来源:测试分析平台 | 【

  16届半导体缺陷识别、成像与物理国际学术会议(英文名称: 16th International Conference on Defects-Recognition,Imaging and Physics in Semiconductors。简称:DRIP XVI )将于201596日至910日在江苏省苏州市举行,会议由中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所主办,浙江大学硅材料国家重点实验室和厦门大学物理学院等单位协办。该会议于1985年在法国蒙彼利埃创办,每两年举行一次,已经在国际半导体研究领域形成广泛的影响。此次会议在华举办,将对于促进我国与国际半导体材料学术界交流、扩大纳米所在国际半导体材料研究领域的影响具有非常重要的意义,欢迎广大学者老师持续关注,踊跃参加。 

  会议网站:http://dripxvi.csp.escience.cn/ 

  会务组联系方式: 

  e-mail:drip16@163.com 

  tel & fax0512-62872807 

 
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