2月1日下午，苏州苏大维格光电科技股份有限公司（简称“苏大维格”）董事长陈林森教授应邀访问苏州纳米所，并为科研人员作了题为《微纳光学制造与应用》的报告。所领导杨辉、刘佩华、陈立桅出席报告会，报告会由纳米加工平台主任张宝顺研究员主持。报告开始前，举行了陈林森教授受聘为苏州纳米所客座研究员聘任仪式，杨辉所长为陈林森教授颁发了聘书。

陈林森教授首先简要介绍了苏大维格的基本情况以及公司围绕行业难题与需求牵引开展的研发工作。随后，陈林森教授围绕共性技术与对策、并行微纳光学制造和微纳光学制造与应用等内容作了深入的讲解，并与现场的科研人员进行了交流与探讨。

作为“干涉光刻”、“卷对卷纳米压印”技术的领先者，苏大维格致力于微纳光学结构制造设备的生产、行业应用以及激光直写光刻技术的研发。产品应用领域包括: 高级印刷包装、 微光学应用、Displays、光学防伪、微米与纳米技术、MEMS以及许多相关领域。公司现已发展成为集研发和制造并举的基于干涉光刻、精密图形化直写、微纳结构压印方面的领军型企业。拥有行业最先进的研发条件、生产设施和一流的人才团队。在微纳光学应用做出开创性工作：在定制化镭射薄膜材料、高端光学防伪器件、微纳光学制造设备和激光干涉光刻设备方面，形成规模化制造能力，成为中国具有自主知识产权的创新企业。

如何将科技成果转移转化为现实生产力，服务地方经济发展是苏州纳米所重要使命之一。苏大维格作为产学研结合的成功典型，对我所此方面工作有着重要的借鉴意义。

杨辉所长为陈林森教授颁发聘书

陈林森教授作报告

报告会现场