网站地图联系我们English中国科学院
 
  仪器设备
公告通知
·中科院苏州纳米所关于招募专利代理机构的公告[08.17]
·助力企业平稳复工 ——中科院苏州纳米所测试分析平台面向省内企业提供优惠测试分析服务[02.21]
·中科院2019年第4季度两类亮点工作筛选启动,欢迎参与有奖投票![12.25]
·关于2020年部分节假日安排的通知[12.03]
·关于2019年国庆节放假安排的通知[09.02]
  您现在的位置:首页 > 公共技术服务中心 > 仪器设备 > 纳米真空互联实验站
SN201612495 超高真空溅射台
2017-02-10| 文章来源: | 【

品名

超高真空溅射台

型号

SPUTTER-24

制造商

台湾铠柏科技

主要功能

磁控溅射是在真空室中,利用低压气体放电现象,使处于等离子状态下的离子轰击靶表面,并利用环状磁场控制辉光放电,使溅射出的粒子沉积在基片上。磁控溅射可以方便的制取高熔点物质的薄膜,在很大面积上可以制取均匀的膜层。

技术指标

背景真空好于5E-10torr

最大镀溅速率:

Al4 A/sec;

Ti3.5 A/sec;

Ni4.5 A/sec;

Pd3.5 A/sec

设备现状

正常

收费标准

面议

管理员

张鉴

联系方式

0512-62872899

设备照片

 

 
版权所有:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 备案序号:苏ICP备10220403号
地址:江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号 邮编:215123 Email: administrator@sinano.ac.cn