所属部门:印刷电子学 

  管理员: 张东煜 

  联系电话:2730 

  主要用途:磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率,从而实现高质量金、镍、钛、铝、ITO、氧化硅等薄膜制备。 

  主要指标:3支¢100永磁靶(带挡板)一支¢50永磁靶;极限真空度:6×10-5 Pa;衬底可加热,室温~350℃;衬底可调速自转 

  存放地:F0101