品名

全自动磁控溅射台

型号

MSP-620

制造商

北京金盛微纳

主要功能

本设备为单室高真空系统,用于溅射各种金属膜、合金膜、介质膜等。

技术指标

1.极限真空: 9.0×10-5Pa

2．溅射材料： 各种金属膜、合金膜、介质膜

3.反应室规格：φ450×350mm

4.溅射靶规格: φ80mm

5.溅射靶数量:三靶倾斜上置

6.均匀性: ≤±5％

7.载片量：10×10cm单片

8.样片台可回转，转速可调。

9.样片衬底可加热,加热温度≤500℃，可自动控温，测温。

10．溅射形式：可实现单层膜溅射，复合膜溅射，多层膜交替或共溅射等。

设备现状

完好

收费标准

面议

管理员

丛杉

联系方式

13913153386 scong2012@sinano.ac.cn

设备照片