品名

原子层沉积系统

型号

LabNano9100

制造商

英作纳米科技（北京）有限公司

主要功能

原子层沉积（ALD）是一种交替使用前驱物，一层一层生长薄膜的技术。

技术指标

基片尺寸：4 -12英寸可选
样品高度：6 mm

基片温度：RT-400℃，控制精度±1℃，
前驱体输运系统：标准2路前驱体管路，可以选配到6路以上
载气系统：N2或者Ar
沉积均匀性：Al2O3

均匀性<+/−1%
电源：50-60Hz, 220V /15A交流

设备现状

完好

收费标准

面议

管理员

姚亚刚

联系方式

ygyao2013@sinano.ac.cn

设备照片