品名

等离子体去胶机

型号

AP-1000

制造商

March

主要功能

通过氧原子与光刻胶在等离子体环境中发生反应生成挥发性的一氧化碳和二氧化碳等生成物，这些生成物容易被真空系统抽走，从而实现去除光刻胶的目的。

技术指标

目前开放功率范围：50-400W工艺气体：O2、Ar气体流量：50-250sccm工作时间：0-30min去胶速率：O2-200sccm 100W-20nm/min 200W-40nm/min 300W-60nm/min 400W-80nm/min 500W-100nm/min

设备现状

正常对外开放预约

收费标准

60元/15min

管理员

杨启超

联系方式

62872658

设备照片