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SN201712218 晶片清洗机(旧)
2018-06-27| 文章来源: | 【
品名

品名

晶片清洗机(旧)

型号

EPM 311F

制造商

RENA

主要功能

直径200mm的样片清洗工艺和电镀工艺

技术指标

可在200mm直径晶片上实现高效率的金属Ni的电镀工艺

配备3个电镀槽,单独控制

设备现状

正常

收费标准

400/h

管理员

叶义军

联系方式

0512-62872625

设备照片


 
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