品名
晶片清洗机(旧)
型号
EPM 311F
制造商
RENA
主要功能
直径200mm的样片清洗工艺和电镀工艺
技术指标
可在200mm直径晶片上实现高效率的金属Ni的电镀工艺;
配备3个电镀槽,单独控制
设备现状
正常
收费标准
400元/h
管理员
叶义军
联系方式
0512-62872625
设备照片