品名

IPEC 472 CMP

型号

IPEC 472

制造商

IPEC

主要功能

利于不同颗粒度/PH值的抛光液，对所要研磨、抛光的样品进行物理和化学的加工处理，使样品的厚度及表面粗糙度到达所要求范围。对晶片实现研磨处理。可应用材料：Si，GaAs，Inp，OSi，玻璃，蓝宝石，陶瓷，GaN等。

技术指标

公转:30rpm，自转:90rpm，OSC:30，研磨液供给：喷2s/间隔10s。 加工样品尺寸：6英寸、4英寸、2英寸及小片.均匀性：±2um,晶片可加工到厚度：Si:50um, GaAs:80um, Inp:80um,玻璃：80um,蓝宝石：100um,表面粗糙度：20-100nm.

设备现状

良好

收费标准

260/小时

管理员

夏先海

联系方式

62872625

设备照片