资产名称： 低压化学气相沉积机（旧）

规格型号：Thermco 5200

工艺类别： 镀膜

所属单位： 加工平台

管理员： 杨磊

用途：低压化学气相沉积（简称LPCVD）是在低于大气压的环境下，通过化学反应，在样品表面沉积薄膜的一种技术，由于其制备的薄膜具有优良的物理化学性能，在半导体器件工艺中一直扮演着重要的角色

主要技术指标：最高温度：900℃; 片内均匀性：<±5% ; 片间均匀性：<±5% ; 样品尺寸：6英寸向下兼容; 薄膜材料：氮化硅;