资产名称:反应离子刻蚀机(旧)
规格型号:903e
工艺类别: 刻蚀
所属单位: 加工平台
管理员: 缪小虎
用途:适用于100mm及以下单片晶片上SiO2/SiNx的刻蚀。刻蚀均匀性<±5%
主要技术指标:温度:25度,侧壁垂直度:85度。关键尺寸偏差<0.1um,工艺气体:He,SF6,CHF3,O2,功率:0-600W