资产名称：分步投影光刻机（旧）

规格型号：NSR-2205i12D

工艺类别： 光刻

所属单位： 加工平台

管理员： 王德稳　　

用途：把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上，分区域进行步进式曝光。本机台可用于150mm×150mm掩模和φ100mm、φ150mm的晶圆高精度投影曝光，曝光精度可达350nm(L&S)。 预约时请提前咨询该设备当前可预约尺寸！

主要技术指标：Resolution：0.35μm overlay accuracy：<75nm Reticle：5:1 100mm*100mm或150mm*150mm