资产名称:投影光刻机
规格型号:Ultratech1100
工艺类别: 光刻
所属单位: 加工平台
管理员: 尹立航
用途: 把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上,分区域进行步进式曝光。
主要技术指标: