品名
磁控溅射镀膜系统
型号
JGP500
制造商
沈阳思创真空技术有限公司
主要功能
镀制各种单层膜,可用于镀制金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁材料薄膜及各种合金膜和掺杂的化合物薄膜。该设备能够将100×100的基片实现双面镀膜,同时样品台具有冷却和加热双重功能。
技术指标
极限真空:系统经24小时连续烘烤(150℃以下)连续抽气,其极限真空≤8×10-5Pa,
抽气速率:系统从大气开始抽气,在≤40分钟内,其真空度≤8×10-4Pa
设备现状
在用
收费标准
管理员
杨赢
联系方式
0512-62872755
设备照片