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SN201707092 磁控溅射镀膜系统
2018-04-26| 文章来源: | 【
品名

品名

磁控溅射镀膜系统

型号

JGP500

制造商

沈阳思创真空技术有限公司

主要功能

镀制各种单层膜,可用于镀制金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁材料薄膜及各种合金膜和掺杂的化合物薄膜。该设备能够将100×100的基片实现双面镀膜,同时样品台具有冷却和加热双重功能。

技术指标

极限真空:系统经24小时连续烘烤(150℃以下)连续抽气,其极限真空≤8×10-5Pa

抽气速率:系统从大气开始抽气,在≤40分钟内,其真空度≤8×10-4Pa

设备现状

在用

收费标准


管理员

杨赢

联系方式

0512-62872755

设备照片


 
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