SN201809026 薄膜气相沉积设备
品名 |
薄膜气相沉积设备 |
型号 |
KC-BMCVD-II |
制造商 |
沈阳科诚真空技术有限公司 |
主要功能 |
供水:为仪器提供10℃-40℃之间的工作环境 供气:驱动气动阀门 极限真空:满足真空蒸镀所需要的条件环境 |
技术指标 |
供水:小型供水机,冷却水温度在5℃-10℃之间 供气:小型无油静音气泵,提供0.2-0.3Mpa气压 极限真空:优于6*10-5pa |
设备现状 |
良好 |
收费标准 |
400元/小时 |
管理员 |
李亚邦 |
联系方式 |
0512-62872695 |
设备照片 |
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