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SN201712218 晶片清洗机(旧)
发布时间:2018-06-27
发布时间:2018-06-27 | 文章来源: | 【 大 中 小 】 | 【打印】 【关闭】
品名
晶片清洗机(旧)
型号
EPM 311F
制造商
RENA
主要功能
直径200mm的样片清洗工艺和电镀工艺
技术指标
可在200mm直径晶片上实现高效率的金属Ni的电镀工艺;
配备3个电镀槽,单独控制
设备现状
正常
收费标准
400元/h
管理员
叶义军
联系方式
0512-62872625
设备照片
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