品名

晶片清洗机（旧）

型号

EPM 311F

制造商

RENA

主要功能

直径200mm的样片清洗工艺和电镀工艺

技术指标

可在200mm直径晶片上实现高效率的金属Ni的电镀工艺；

配备3个电镀槽，单独控制

设备现状

正常

收费标准

400元/h

管理员

叶义军

联系方式

0512-62872625

设备照片