品名

溅射台（旧）

型号

Z-1000

制造商

ULVAC

主要功能

用于反应溅射沉积TiN和AlN。也可溅射纯金属Ti和Al。

技术指标

（1）真空系统：设备配有loadlock，分为两个进样腔，一个过渡腔，两个工艺腔。其中Ti与Al靶单独配有一个真空腔，并由一个分子泵和冷泵抽至高真空，极限真空可达7E-6Pa，本底真空可至1E-5Pa。 （2）气路配置：Ar、、N2、GN2。 （3）工艺参数：配备两个直流电源，功率范围可调，目前试有1KW，气体流量可调，目前范围为0~50sccm。温度范围可调，可由常温至800℃。 （4）样品要求：6寸及以下兼容，其中6寸以下样品需粘贴固定于6寸托盘上面。

设备现状

正常对外开放预约

收费标准

机时非：500元/30min，材料费1元/nm,其他费用：开腔一次300元。

管理员

马苏州

联系方式

62872658

设备照片