SN201706023 溅射台(旧)
品名 |
溅射台(旧) |
型号 |
Z-1000 |
制造商 |
ULVAC |
主要功能 |
用于反应溅射沉积TiN和AlN。也可溅射纯金属Ti和Al。 |
技术指标 |
(1)真空系统:设备配有loadlock,分为两个进样腔,一个过渡腔,两个工艺腔。其中Ti与Al靶单独配有一个真空腔,并由一个分子泵和冷泵抽至高真空,极限真空可达7E-6Pa,本底真空可至1E-5Pa。 (2)气路配置:Ar、、N2、GN2。 (3)工艺参数:配备两个直流电源,功率范围可调,目前试有1KW,气体流量可调,目前范围为0~50sccm。温度范围可调,可由常温至800℃。 (4)样品要求:6寸及以下兼容,其中6寸以下样品需粘贴固定于6寸托盘上面。 |
设备现状 |
正常对外开放预约 |
收费标准 |
机时非:500元/30min,材料费1元/nm,其他费用:开腔一次300元。 |
管理员 |
马苏州 |
联系方式 |
62872658 |
设备照片 |
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