SN201608028 金属有机化学气相沉积
品名 |
金属有机化学气相沉积 |
型号 |
G4 |
制造商 |
AIXTRON |
主要功能 |
用于GaAs与InP基的III-V化合物半导体薄膜的外延生长。 |
技术指标 |
8x3"行星式反应室,管路配置为AsH3、PH3、SiH4、HCl、TMGa、TBAs、Ferrocene与DEZn。 |
设备现状 |
良好 |
收费标准 |
面议 |
管理员 |
熊敏 |
联系方式 |
62872625 |
设备照片 |
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