SN201512381 IPEC 472 CMP

品名

品名

IPEC 472 CMP

型号

IPEC 472

制造商

IPEC

主要功能

利于不同颗粒度/PH值的抛光液,对所要研磨、抛光的样品进行物理和化学的加工处理,使样品的厚度及表面粗糙度到达所要求范围。对晶片实现研磨处理。可应用材料:SiGaAsInpOSi,玻璃,蓝宝石,陶瓷,GaN等。

技术指标

公转:30rpm,自转:90rpmOSC:30,研磨液供给:喷2s/间隔10s。 加工样品尺寸:6英寸、4英寸、2英寸及小片.均匀性:±2um,晶片可加工到厚度:Si:50um, GaAs:80um, Inp:80um,玻璃:80um,蓝宝石:100um,表面粗糙度:20-100nm.

设备现状

良好

收费标准

260/小时

管理员

夏先海

联系方式

62872625

设备照片



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