SN201512381 IPEC 472 CMP
品名 |
IPEC 472 CMP |
型号 |
IPEC 472 |
制造商 |
IPEC |
主要功能 |
利于不同颗粒度/PH值的抛光液,对所要研磨、抛光的样品进行物理和化学的加工处理,使样品的厚度及表面粗糙度到达所要求范围。对晶片实现研磨处理。可应用材料:Si,GaAs,Inp,OSi,玻璃,蓝宝石,陶瓷,GaN等。 |
技术指标 |
公转:30rpm,自转:90rpm,OSC:30,研磨液供给:喷2s/间隔10s。 加工样品尺寸:6英寸、4英寸、2英寸及小片.均匀性:±2um,晶片可加工到厚度:Si:50um, GaAs:80um, Inp:80um,玻璃:80um,蓝宝石:100um,表面粗糙度:20-100nm. |
设备现状 |
良好 |
收费标准 |
260/小时 |
管理员 |
夏先海 |
联系方式 |
62872625 |
设备照片 |
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