SN201012324 反应离子刻蚀机(旧)

资产名称:反应离子刻蚀机(旧)

规格型号:903e

工艺类别: 刻蚀

所属单位: 加工平台

管理员: 缪小虎

用途:适用于100mm及以下单片晶片上SiO2/SiNx的刻蚀。刻蚀均匀性<±5%

主要技术指标:温度:25度,侧壁垂直度:85度。关键尺寸偏差<0.1um,工艺气体:He,SF6,CHF3,O2,功率:0-600W


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