党委书记 邓强
所长、党委副书记 王强斌
副所长 李清文
纪委书记 袁艳明
副所长 徐科
副所长 张剑
纳米器件研究部
先进材料研究部
纳米生物医学研究部
创新实验室
轻量化实验室
纳米加工平台
测试分析平台
纳米生化平台
纳米真空互联实验平台
智能安全技术研究与应用中心
院 士
杰出青年
研 究 员
项目研究员
副研究员
客座研究员
苏州纳米所亮相纳博会纳米科普展
2020全国科普日苏州主场纳米所科普大咖主题演讲
中科院苏州纳米所助力西交苏州附中“纳米科学创新人才培养”
"半语-益言"系列直播讲座
SN201506023 LPCVD
发布时间:2016-03-01
发布时间:2016-03-01 | 文章来源: | 【 大 中 小 】 | 【打印】 【关闭】
资产名称:LPCVD
型号规格:DFS250
工艺类别: 镀膜
所属单位: 加工平台
管理员: 杨磊
用途: 低压化学气相沉积(简称LPCVD)是在低于大气压的环境下,通过化学反应,在样品表面沉积薄膜的一种技术,由于其制备的薄膜具有优良的物理化学性能,在半导体器件工艺中一直扮演着重要的角色
主要技术指标: 最高温度:900℃; 片内均匀性:<±5% ; 片间均匀性:<±5% ; 样品尺寸:6英寸向下兼容; 薄膜材料:氮化硅; 多晶硅
附件下载: