SN201506023 LPCVD

资产名称:LPCVD    

型号规格:DFS250

工艺类别: 镀膜

所属单位: 加工平台

管理员: 杨磊

用途: 低压化学气相沉积(简称LPCVD)是在低于大气压的环境下,通过化学反应,在样品表面沉积薄膜的一种技术,由于其制备的薄膜具有优良的物理化学性能,在半导体器件工艺中一直扮演着重要的角色

主要技术指标: 最高温度:900℃; 片内均匀性:<±5% ; 片间均匀性:<±5% ; 样品尺寸:6英寸向下兼容; 薄膜材料:氮化硅; 多晶硅     


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