快速退火炉（旧）

编号：AST-003（SN201112081）

工艺类别：退火

所属单位： 加工平台

管理员：姬荣坤

状态： 正常

价格：240元/小时

单位预约时间：60(单位:分钟)

用途

快速热处理技术（RTP） 可用于：硅及化合物半导体材料离子注入后的缺陷消除/激活杂质，硅化物形成，欧姆/肖特基接触的制备以及快速氧化/氮化，消除薄膜应力，提高薄膜附着性等方面。 该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温，慢速升降温的功能，因此也可用于各种半导体材料PVD/CVD工艺的热处理。

主要技术指标

1、最大温度范围400℃-800℃，

2、升温速率90℃/秒，可预设定