等离子增强化学气相沉积机（旧）

编号：Oxford 80+（SN201208223）

工艺类别： 镀膜

所属单位： 苏州纳米所

管理员：刘彬

状态： 正常

价格：250/30分钟

单位预约时间：30(单位:分钟)

用途

该设备是专门为大学及研究机构设计的小型化产品，被广泛的应用于各种产品的研发以及小批量生产。它配置了直接开启式工艺平台，可以根据客户需要分别进行RIE（反应离子刻蚀）或PECVD（等离子增强型化学气相沉积）模式，应用灵活。

主要技术指标

PECVD:装片：最大240mm衬底，最佳为100mm衬底 真空度范围：<100-2000mTorr RF功率:10-300W衬底温度:100-380℃。 目前可淀积材料包括：SiO2，SiNx。RIE:装片：最大240mm衬底，最佳为100mm衬底 真空度范围：<100-2000mTorr RF功率:10-300W目前可刻蚀材料包括：SiO2，SiNx。

加工平台布局位置