SN201312003 离子注入机
| 离子注入机 |
| 编号： NV-GSD-HE |
| 工艺类别： 镀膜 |
| 所属单位： 加工平台 |
| 管理员： 邢政 |
| 状态： 正常 |
| 价格： 800/30分钟 |
| 单位预约时间： 30(单位:分钟) |
| 用途 |
| 离子注入机是半导体器件掺杂工艺的关键设备，注入过程中可对剂量、能量、角度进行精确控制，从而改变半导体的载流子浓度与导电类型 |
| 主要技术指标 |
| 注入能量：10keV～1MeV（单价离子）; 注入剂量：1E11～1E17 ions/cm2; 角度：±11°; 样品：6英寸（向下兼容），17片; 目前可进行硼、磷、氟、铝、氮、氩等离子注入. |
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