电子束光刻机

编号：JBX5500ZA (SN200812039)

工艺类别：光刻

所属单位：加工平台

管理员：侯克玉

状态：正常

价格：800/60分钟

单位预约时间：60(单位:分钟)

用途

电子束曝光是利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的，与光学曝光对应，其特点是将聚焦电子束代替光照以实现抗蚀剂（光刻胶）的曝光（改性）。在实验室广泛应用的电子束曝光机为矢量扫描高斯型系统，即：电子束斑为高斯线型，工作时采用矢量扫描方式。电子束曝光无需掩膜，可实现低至10nm线宽图形，是目前纳米技术研究中非常重要的纳米图形生成手段。

主要技术指标

请客户自行计算曝光时间，以此为依据预约时间。曝光时间计算公式：曝光时间=曝光面积*曝光剂量/束流大小（束流大小一般为100PA）Accelerating voltage：25/50 kV Minimum line width：10 nm（50 kV?5th）Overlay Accuracy：40 nm Field stitching Accuracy: 40 nm Exposure range：直径75 mm Scan speed：12 MHz to 250 Hz