品名

磁控溅射镀膜系统

型号

JGP500

制造商

沈阳思创真空技术有限公司

主要功能

镀制各种单层膜，可用于镀制金属膜、半导体膜、介质膜、铁磁材料薄膜及各种合金膜和掺杂的化合物薄膜。该设备能够将100×100的基片实现双面镀膜，同时样品台具有冷却和加热双重功能。

技术指标

极限真空:系统经24小时连续烘烤（150℃以下）连续抽气，其极限真空≤8×10^-5Pa，

抽气速率：系统从大气开始抽气，在≤40分钟内，其真空度≤8×10^-4Pa

设备现状

在用

收费标准

管理员

杨赢

联系方式

0512-62872755

设备照片