品名

高精密单面抛光机

型号

36GPAW-TD

制造商

创技工业股份有限公司

主要功能

1.2~6inch 晶片化学机械抛光

2.适用材料：GaN

技术指标

1.陶瓷载物盘直径：360mm

2. 2英寸晶片总厚度偏差TTV≤5μm

3. 2英寸晶片的表面粗糙度Ra≤0.2nm

4. 4英寸晶片总厚度偏差TTV≤10μm

5. 4英寸晶片的表面粗糙度Ra≤0.2nm

设备现状

正常对外开放预约

收费标准

请提前与设备管理员联系，预约时间，确认实验方案与价格。

管理员

王明月

联系方式

13584805775

设备照片